Dirancang untuk aplikasi industri semikonduktor seperti suplai udara untuk pressurization wafer, vacuum chuck untuk penahanan wafer, suplai udara untuk vacuum break, suplai air cooling ke rotary table, serta pengiriman air murni, kimia, dan slurry.
Produk ini mengurangi elusi ion logam ke dalam fluida karena bagian internal wetted non‑metalik, menggunakan material tahan kimia, serta dilengkapi seal mekanis tahan aus yang mendukung penggunaan untuk udara, vakum, air murni, dan slurry.
* Tergantung pada spesifikasinya, penyemprotan air mungkin diperlukan.
1. Mengurangi pelepasan ion logam ke dalam cairan berkat bagian internal yang bersentuhan dengan cairan yang terbuat dari bahan non-logam.
2. Bagian internal yang bersentuhan dengan cairan terbuat dari bahan yang tahan terhadap bahan kimia
3. Dapat digunakan pada udara, vakum, air murni, dan lumpur berkat segel mekanis yang tahan aus
Brosur katalog akan segera dikirim melalui Email yang telah anda tulis pada formulir berikut.
